電荷缺陷(Charge defect)也稱為非化學(xué)計量結(jié)構(gòu)缺陷,存在于非化學(xué)計量化合物中,由于熱能和其他能量傳遞激發(fā)電子躍遷,產(chǎn)生空穴和電子形成附加電場引起周期勢場的畸變,造成晶體的不完整性。在工業(yè)上有著廣泛的應(yīng)用。
電荷缺陷的定義電荷缺陷(Charge defect)也稱為非化學(xué)計量結(jié)構(gòu)缺陷,存在于非化學(xué)計量化合物中,由于熱能和其他能量傳遞激發(fā)電子躍遷,產(chǎn)生空穴和電子形成附加電場引起周期勢場的畸變,造成晶體的不完整性。
電荷缺陷的原理非化學(xué)計量結(jié)構(gòu)缺陷的形成需要在化合物中或摻入或有多價態(tài)元素組分,如過渡金屬氧化物。當(dāng)環(huán)境中的氣氛和分壓改變時,引起化合物的組成偏離化學(xué)計量關(guān)系,形成電荷缺陷。晶體中某些質(zhì)點(diǎn)個別電子處于激發(fā)狀態(tài),有的離開原來質(zhì)點(diǎn),形成自由電子,在原來電子軌道上留下了電子空穴??籽ㄒ部梢詫?dǎo)電,這樣雖末破壞原子排列的周期性,在由于孔穴和電子分別帶有正負(fù)電荷,在它們附近形成一個附加電場,引起周期勢場畸變,造成晶體不完整性稱電荷缺陷。1
舉例說明如在還原氣氛中形成的TiO2-x,晶體機(jī)構(gòu)中缺少氧離子,只有部分鈦離子從四價變成三價才可保持電中性。當(dāng)高價或低價的雜質(zhì)原子代替晶體中空間點(diǎn)陣中固有的原子,不僅形成了組成缺陷,而且也造成電荷缺陷。
比如:純半導(dǎo)體禁帶較寬,價電帶電子很難越過禁帶進(jìn)入導(dǎo)帶,導(dǎo)電率很低,為改善導(dǎo)電性,可采用摻加雜質(zhì)的辦法,如在半導(dǎo)體硅中摻入P和B,摻入一個P,則與周圍Si原子形成四對共價鍵,并導(dǎo)出一個電子,叫施主型雜質(zhì),這個多余電子處于半束縛狀態(tài),只須填加很少能量,就能躍遷到導(dǎo)帶中,它的能量狀態(tài)是在禁帶上部靠近導(dǎo)帶下部的一個附加能級上,叫施主能級,叫n型半導(dǎo)體。當(dāng)摻入一個B,少一個電子,不得不向其它Si原子奪取一個電子補(bǔ)充,這就在Si原子中造成空穴,叫受主型雜質(zhì),這個空穴也僅增加一點(diǎn)能量就能把價帶中電子吸過來,它的能量狀態(tài)在禁帶下部靠近價帶頂部一個附加能級,叫受主能級,叫P型半導(dǎo)體,自由電子,空穴都是晶體一種電荷缺陷。2
電荷缺陷的工業(yè)應(yīng)用電荷缺陷是一種點(diǎn)缺陷,原子偏離正常的平衡位置,發(fā)生微量位移,破壞了原子排列的規(guī)律性,造成晶格畸變,使電子在傳導(dǎo)時散射增加,從而增加了電阻,空位的存在還使晶體密度下降,體積增大,高溫下大量空位存在與運(yùn)動使晶體發(fā)生蠕變。高溫快速冷卻保留的或經(jīng)輻照處理后的大量空位還可能形成空位片,或者與其他晶體缺陷發(fā)生交互作用,提高材料的強(qiáng)度,但相對的韌性下降??瘴缓烷g隙原子的運(yùn)動是晶體內(nèi)原子擴(kuò)散的內(nèi)部原因,而擴(kuò)散又是燒結(jié)等加工工藝過程的基礎(chǔ)。3
本詞條內(nèi)容貢獻(xiàn)者為:
楊劍虹 - 教授 - 西南大學(xué)